«Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
 |
Терешин Володимир Іванович Директор |
|
В. І. Терешин — доктор фізико-математичних наук, професор, лауреат Державної премії України в галузі науки і техніки, член-кореспондент НАН України. Народився 17січня 1938 р. у Донецьку. Фахівець у галузі фізики плазми та керованого термоядерного синтезу, плазмодинаміки, прискорювачів плазми, плазмових технологій, діагностики високотемпературної плазми, має більше 300 наукових праць і винаходів. |
||
Основні напрями діяльності інституту: керований термоядерний синтез, утримання високотемпературної плазми в стелараторах, ВЧ нагрів плазми та збудження струму в тороїдальних магнітних системах, діагностика високотемпературної плазми, розробка потужних квазістаціонарних плазмових прискорювачів та їх використання, розвиток новітніх плазмових технологій. Експериментальна база ІФП налічує 19 плазмових і термоядерних установок. Треба підкреслити, що всі термоядерні установки України зосереджені в Інституті фізики плазми ННЦ ХФТІ. Серед них — найбільший у Європі стеларатор-торсатрон «Ураган-2М» та найпотужніший у світі квазістаціонарний плазмовий прискорювач «КСПП Х-50».
В ІФП проводиться розробка нових методів нанесення багатошарових композитних покриттів із використанням комбінованих розрядів, розробка методів модифікації поверхневих шарів при впливі потужних потоків плазми різних газів. Активно впроваджується у промисловість технологія імпульсної плазмової модифікації поверхонь виробів із металів та сплавів. Ця технологія надає можливість суттєво підвищити час експлуатації виробів в умовах сухого тертя, замінити дорогі леговані сталі дешевшими, заліковувати дефекти на поверхні виробу (мікротріщини, подряпини). На відміну від традиційних технологій нанесення покриттів, модифікований поверхневий шар матеріалу, утворений за допомогою плазмової обробки, вирішує проблему адгезії. Водночас плазмова модифікація вигідно відрізняється від традиційних процесів азотування, цементації тощо завдяки екологічній чистоті, легкості використання та чіткому контролю за глибиною і параметрами утворюваного шару. Ця технологія дає можливість отримувати необхідні параметри модифікованого шару (глибина, шорсткість, мікротвердість). Обробка деталей та вузлів агрегатів, які використовуються в умовах сухого тертя (валки, пуансони та ін.), ріжучого інструменту (сільськогосподарські та промислові ножі), лопаток двигунів та турбін — це ще не повний перелік напрямів, де може використовуватися імпульсна плазмова обробка. Вже зараз послуги з модифікації поверхні виробів надаються багатьом українським підприємствам (ВАТ «Мотор-Січ», ТОВ «Мекап», ВАТ «Коннектор» та ін.).
В інституті розроблено компактний магнітоплазмовий компресор, що працює на ксеноні, для генерації випромінювання у сфері вакуумного ультрафіолету та м’якого рентгену.
Планарне ЕЦР плазмове джерело з мультипольним магнітним полем дозволяє наносити багатошарові та комбіновані плівки з тугоплавких матеріалів, навіть магнітні матеріали, а також плівки композиційних матеріалів та сплавів зі збереженням стехіометрії.
Удосконалення методу PVD здійснюється в напрямі застосування додаткових джерел плазми, розробки методів чищення виробів перед нанесенням покриттів, розробки фільтрів для зменшення кількості макрочасток у плазмовому потоці, відпрацьовування технології композитних та багатошарових покриттів, нанесення покриттів на діелектричні матеріали, нанесення покриттів при низьких температурах на внутрішні поверхні металевих і діелектричних труб тощо.
Дослідження нанесення покриттів іонно-плазмовими методами проводиться на модернізованих установках «Булат-6», «Булат-9» і «Булат-ТНП». У результаті цих досліджень отримано такі технології: нанесення плівок на матеріали з низькою температурою плавлення при одночасній роботі дугового й ВЧ джерел плазми; нанесення покриттів на внутрішні поверхні металевих та діелектричних труб за допомогою ВЧ джерела плазми; нанесення покриттів у дуговому розряді для підвищення зносостійкості різального інструменту з використанням композитних катодів і роздільних катодів із магнітною сепарацією плазмових потоків; нанесення діелектричних покриттів типу Al2O3. Технології включають комбінації процесів попередньої фізико-хімічної обробки поверхні інструменту (наприклад, віброабразивна обробка, обробка в різних газових розрядах, імплантація тощо) і осадження багатошарових композиційних покриттів типу Ті, (TiCr)N, (TiAl)N, (TiZr)N, TiC-TiCN-Ti.
Також проводяться дослідження розрядів при атмосферному тиску в повітрі з метою оптимізації отримання вихідної концентрації і продуктивності озону. На підставі досліджень виготовлено низку озонаторів різного призначення потужністю 5–300 Вт та багатофункціональний низькотемпературний озоновий стерилізатор з ультразвуковою кавітацією. Дослідження з інактивації різних бактерій показали ефективність низькотемпературного стерилізатора. Отримано такі результати при інактивації низки бактерій: E.coli 055 K 59 № 3912/41 (2 хвилини), Staphylococcus aureus ATCC № 25923 (2 хвилини), Pseudomonas Aeruginoza 27/99 (2 хвилини), Cl. Oedematiens 198 (5 хвилин), B.cereus № 8035 (10 хвилин).
Вул. Академічна, 1, м. Харків, 61108. Тел.: 0 (57) 335-63-05, 335-64-30, факс: 0 (57) 335-26-64.
E-mail: tereshin@kipt.kharkov.ua
Назад ] Зміст [ Вперед 